MKS 精密光學制造部門為 OEM 客戶生產(chǎn)先進的光學產(chǎn)品，如透鏡、反射鏡、窗片、分束器、波片、濾光片和偏振片等，這些器件經(jīng)過高精度表面拋光，具有嚴格的不均勻性、表面粗糙度和表面技術(shù)參數(shù)，而這些都經(jīng)過了先進的計量設(shè)備驗證。薄膜鍍膜經(jīng)過工程設(shè)計具有較寬的光譜范圍(DUV - VIS - IR)，采用多種沉積方法制備寬帶、窄帶和多波段的抗反射膜、反射膜、濾光鍍膜和偏振鍍膜，并通過精密的鍍膜計量工具對這些器件進行驗證。

MKS Spectra-Physics® 品牌提供高性能、可靠的激光系統(tǒng)，同時有應用工程師團隊和響應全球的支持組織提供技術(shù)支持。光物理激光器廣泛應用于各種工業(yè)制造應用，包括立體光刻、快速成型和激光沖擊處理。

外腔半導體激光器 (ECDL) 是一種窄線寬 ( 約為100 kHz) 可調(diào)諧頻率光源，可用于半導體晶圓的激光反射和干涉測量。MKS 為OEM 提供工程支持，可根據(jù)客戶的需求定制這些光源，例如機械和光學再設(shè)計、形狀因子修改、光纖耦合、光學隔離器的添加、無跳模調(diào)諧范圍的擴展、電子集成、速度調(diào)諧或線性度調(diào)諧的優(yōu)化等。圖 2 所示為半導體制造設(shè)計的ECDL 模型，TLB- 8800 可調(diào)諧激光器采用 Littman-Metcalf 設(shè)計，針對激光掃描和反射測量計量優(yōu)化，可提供超快音圈電機調(diào)諧( 調(diào)諧速度達2000 nm/s，20000 nm/s 可選) 用于高重頻快速分析，如調(diào)諧速度10000 nm/s、無跳模調(diào)諧范圍 100+ nm 時重頻可達 30 Hz。TLM-8700 是 TLB-8800 的 OEM  版本，結(jié)構(gòu)更加緊湊。

MKS Newport 品牌功率計和光電探測器提供 ISO-9001 或  ISO-17025 認證的 NIST 可追溯校準，以盡可能精確地測量功率和能量( 見圖 5)。這些器件是為 OEM 應用定制，并作為目錄產(chǎn)品供貨用于研發(fā)應用。光電二極管 (818 和 918D 系列)、熱電堆 (919P) 和焦熱電 (919E) 探測器將入射光子轉(zhuǎn)換成可測量的電信號，由兼容的功率表讀取，根據(jù)探測器的響應度進行校正，并顯示為測量功率。我們的探測器多種型號，可適用于大多數(shù)應用，包括經(jīng)過客戶啟發(fā)研發(fā)的僅 5.4 mm 厚 的 818-ST2 系列筆式探測器，積分球探測器 (918D-IS、819C 或 819D) 與大多數(shù)光纖連接器類型兼容，其入射到探測器有效區(qū)域內(nèi)的光更加均勻，進一步降低了測量不確定性。